「リサーチ・レジデンス・プログラム」は、アーティスト、デザイナー、音楽家、パフォーマー、建築家、キュレーター、リサーチャーといった様々な分野の国内外のクリエーターを対象に、東京を舞台とした文化芸術の研究、新しい創作に向けたリサーチを行う機会を提供するプログラムです。

募集内容

ヴィジュアルアート、デザイン、建築、音楽、サウンドアート、パフォーミングアート、キュレーション等の文化芸術に関する分野での参加者を募集   滞在期間：2020年9月～11月、または2021年1月～3月の6週間～12週間 募集人数：10名（予定） 募集分野： ヴィジュアル・アート、デザイン、建築、音楽、サウンド・アート、 パフォーミング・アート、キュレーション等の文化芸術に関する分野 サポート内容：居室（シングルルーム） スタジオ：なし

作品規定

リサーチ・レジデンス・プログラム 　　 　 　- 応募要項　Outline_RR2020J.pdf　: https://www.tokyoartsandspace.jp/static/file/open%20call/Residency/2020/ICR_RR/Outline/Outline_RR2020J.pdf 　　 　- アプリケーションパッケージ　Application Package_RR2020J.zip ※複数のプログラムへの同時応募も可能です （応募要項の「応募資格」をご確認ください。） その場合は、それぞれの応募用紙をご記入の上、一緒にお送りください。   応募締切 応募申し込み：2019年6月28日（金）18:00（日本時間）まで 作品データ提出：2019年7月5日（金）18:00（日本時間）まで 応募方法 「応募要項」「アプリケーションパッケージ」をダウンロードし、応募書類を送付してください。 具体的な応募方法については、「応募要項」をご確認ください。   応募書類・資料内容 ① アプリケーションフォーム（PDF ファイル） ② 推薦状2 通（PDF ファイル） 　 芸術に関わる専門家（学芸員、批評家、大学教員など）2 名からの署名入りの推薦状。    ※推薦状執筆者の情報を「アプリケーションフォーム」の14) 推薦人に記入してください。    ※A4 用紙に日本語または英語で書かれた署名入りの推薦状原本をスキャンし、PDF ファイルに    してメール添付にて、2019 年6 月28 日（金）までにお送りください。 ③ 作品データ 　 「アプリケーションフォーム」の1 6 ) 作品リスト に記入した作品データ。    ※「応募書類・資料作成マニュアル」を参照の上、作成してください。 ④出版物／参考資料（ PDF ファイル・ 任意）    「アプリケーションフォーム」の1 6 作品リスト D. 出版物／参考資料 に記入した出版物等。    ※指定したサイズやフォーマット、 方法以外で応募された場合、審査対象外となる場合があります。    ※提出資料は返却せず、一定期間保管後、処分させていただきますのでご了承ください。

応募方法/応募先

詳細は主催者WEBサイトを参照

応募時の会員登録

不要

募集期間

~ 2019年6月28日（金）

応募資格

下記条件を満たす国内外のクリエーター ① 専門とする分野での活動実績があり、将来の活躍が期待される者であること。 ② 英語で十分にコミュニケーションを取ることができ、他の滞在クリエーターとの相互理解や交流に努められること。 ③ 自立して生活、リサーチ活動ができること。 ④ 個人またはデュオで活動しているクリエーター。

賞

サポート内容 居室（シングルルーム）の提供。 ※クリエーターにはシングルルームを提供。但し、デュオの場合は、ツインベットルームを提供。 ※本プログラムでは、原則としてスタジオの提供はありません。

出典：https://www.tokyoartsandspace.jp/archive/application/2019/20190517-208.html
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